Лампа для впливу УФ випромінювання з галієм

Fri, 19 Jun 2026 09:55:14 +0800

На еліптичних пресах моделі KTK процес висушування не є послідовним – це постійне запускання та зупинка процесу, година за годиною. Стандартні ртутні лампи погано справляються з таким режимом роботи. Електроди втомлюються, стабільність дуги змінюється, а потужність лампи знижується саме тоді, коли вона найбільше потрібна. Ми створили спеціальну УФ-лампу, яка складається з трубки з допоміжним елементом на основі галію; це дозволяє їй без проблем запускатися багаторазово, при цьому зберігаючи контроль над спектром світла та терміном служби лампи.

Галлієва лампа для експонування шовкового друку

Mon, 08 Jun 2026 07:31:44 +0800

На підлозі одиниця експозиції екрану залежить від своєї лампи та чистоти кварцового корпусу. Вставте лампу галію для експозиції екрану, і один відбиток пальця на кварці стає безсумнівним шляхом до відмови. Органічні залишки поглинають короткохвильове УФ-випромінювання, утворюються гарячі точки на кварці, і прискорюється кристалічна девітрифікація. У результаті ви отримуєте вимірний втрачений спектральний вихід, коротший термін служби лампи та звичні проблеми — експозиція, що відхиляється, «пінхоли» та переробка.

Лампи галію забезпечують стабільний спектральний профіль, зосереджений на 365 нм та 405 нм, саме там, де це потрібно фотосенсибілізаторам у УФ-використовуваних емульсіях. Цей цілеспрямований вихід досягає більшої пікової іррадіації на трафареті, ніж у ртуті широкого спектру, що підвищує однорідність зшивання та зменшує кількість «пінхолів». Більшість систем працюють при 80–120 W/cm, з дихрокоатними відбивачами для формування променя та підтримання стабільної дози по всьому полю експозиції. Вихід вимірюється в mJ/cm²; з чистим кварцом та відбивачами, вирівняними відповідно до специфікацій, ви можете підтримувати однорідність дози в межах ±5% на активній ділянці.

Exposure on Top UV Lamp

Лампа для впливу УФ випромінювання з галієм

Галлієва лампа для експонування шовкового друку