Lampu pendedahan UV berasaskan galium

Fri, 19 Jun 2026 09:55:14 +0800

Pada garis elips KTK, proses pengeringan tidak berlaku secara lancar; ia merupakan proses yang berulang-ulang, dari jam ke jam. Lampu merkuri biasa tidak sesuai untuk tugas ini. Elektrod menjadi letih, stabiliti arka berubah-ubah, dan kuasa yang dihasilkan menurun tepat pada masa ia diperlukan. Kami telah membina lampu pendedahan UV khusus yang menggunakan tiub arka yang diperkaya dengan gallium, agar ia dapat dihidupkan berulang kali tanpa menghilangkan kawalan spektrum atau memendekkan jangka hayat lampu tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami membentuk keluaran cahaya agar sesuai dengan keperluan fotoinisator: profil spektrum yang stabil dan sempit, dengan panjang gelombang 365 nm, serta intensiti cahaya maksimum sebanyak 1200 mW/cm² pada jarak kerja 10 mm. Ketumpatan tenaga adalah 120 W/cm, dan cahaya tersebut disalurkan melalui reflektor yang dilapisi dengan bahan dichroic, agar haba tidak sampai ke permukaan bahan yang diproses, sebaliknya cahaya UV akan tertumpu pada dakwat tersebut. Penggunaan gallium membantu mengurangkan hakisan elektrod akibat penghidupan berulang-ulang, sehingga voltan penghidupan dan stabiliti arka tetap baik walaupun setelah ribuan kali penghidupan. Ketumpatan tenaga yang digunakan untuk proses pengeringan mencapai 800 mJ/cm² dalam masa kurang dari 0.5 saat—cukup untuk memastikan adhesi dan pengeringan permukaan yang sempurna, walaupun dalam tempoh waktu yang singkat.

Lampu gallium untuk pendedahan cetakan skrin

Mon, 08 Jun 2026 07:31:44 +0800

Di lantai, unit pendedahan skrin bergantung pada lampunya dan seberapa bersih sarung kuarza itu. Letakkan lampu gallium untuk pendedahan skrin, dan satu cap jari pada kuarza menjadi laluan kegagalan yang pasti. Sisa organik menyerap UV gelombang pendek, titik panas terbentuk pada kuarza, dan devitrifikasi kristal dipercepat. Anda akan mengalami kehilangan keluaran spektrum yang boleh diukur, hayat lampu yang lebih pendek, dan kesan biasa—pendedahan yang melayang, lubang pin, dan kerja semula.
Lampu gallium memberikan profil spektrum yang stabil yang terletak pada 365 nm dan 405 nm, tepat di mana fotoinisiator dalam emulsi yang boleh disembuhkan oleh UV memerlukannya. Keluaran yang disasarkan itu mencapai puncak kecerahan yang lebih tinggi pada stensil berbanding merkuri spektrum lebar, yang mengeratkan keseragaman pautan silang dan mengurangkan lubang pin. Kebanyakan sistem beroperasi pada 80–120 W/cm, dengan reflektor yang dilapisi dikroik untuk membentuk sinar dan mengekalkan dos yang konsisten di seluruh kawasan pendedahan. Keluaran diukur dalam mJ/cm²; dengan kuarza bersih dan reflektor diselaraskan mengikut spesifikasi, anda boleh mengekalkan keseragaman dos ±5% di seluruh kawasan aktif.
Inilah sebabnya ia berfungsi dalam amalan: keluaran jalur sempit diterjemahkan kepada pendedahan yang lebih cepat dan beban haba yang lebih rendah pada rangka skrin, jadi pelendutan dan kembang emulsi tetap terkawal. Lampu gallium juga bebas ozon, yang memudahkan pengudaraan dan mengawal pendedahan pengendali. Ganjarannya adalah kurang pengubahsuaian pendedahan, sisa makeready yang lebih sedikit, dan kebolehulangan yang konsisten dari satu pekerjaan ke pekerjaan yang lain.
Beberapa nota lapangan. Jangan sekali-kali menyentuh kuarza dengan tangan kosong. Gunakan sarung tangan bebas serat dan isopropil alkohol untuk pengendalian dan pembersihan. Sahkan kesesuaian voltan dan penghidup—lampu gallium mempunyai ciri lengkung yang berbeza daripada merkuri, dan mereka memerlukan ballast yang sesuai. Tetapkan penjajaran reflektor kepada jarak fokus yang ditentukan; offset 2 mm boleh mengurangkan puncak kecerahan sebanyak 10%. Jangka hayat diharapkan adalah 2,000–3,000 jam pada kuasa yang dinilai, dan perhatikan pengoksidaan reflektor dan kabus kuarza sebagai laluan degradasi utama.

Pendedahan on Top UV Lamp

Lampu pendedahan UV berasaskan galium

Lampu gallium untuk pendedahan cetakan skrin