<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>חשיפה on Top UV Lamp</title>
		<link>http://top-uv-lamp.com/he/tags/%D7%97%D7%A9%D7%99%D7%A4%D7%94/</link>
		<description>Recent content in חשיפה on Top UV Lamp</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 09:55:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://top-uv-lamp.com/he/tags/%D7%97%D7%A9%D7%99%D7%A4%D7%94/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>מנורת חשיפה לקרינת UV – גליום</title>
				<link>http://top-uv-lamp.com/he/posts/uv-exposure-lamp-gallium/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 09:55:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://top-uv-lamp.com/he/posts/uv-exposure-lamp-gallium/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://top-uv-lamp.com/images/75bb99bd990872cf480712bdbadfde26.png&#34; alt=&#34;מנורת חשיפה לקרינת UV – גליום&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;בקו האליפטי של KTK, תהליך הייבוש אינו חלק – זהו תהליך של הדלקה וכיבוי חוזרים ונשנים, שעה אחר שעה. מנורות כספית רגילות לא מסוגלות לעמוד בתנאים אלה. האלקטרודות נעשות עייפות, יציבות הקשת יורדת, וההספק יורד בדיוק ברגעים הקריטיים. יצרנו מנורת קרינה UV מיוחדת, המשתמשת בצינור ארק מעורבב בגליום, כך שהיא יכולה להידלק שוב ושוב מבלי לאבד את השליטה בספקטרום הקרינה או את חיי המנורה.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;מה חשוב מבחינה טכנית?&lt;/strong&gt;&#xA;אנו מעצבים את ההספק כך שיתאים לחלון הפוטואיניציאטור: פרופיל ספקטרלי יציב וצר, בעל שיא של 1200 מיליוואט לסמ”ר, במרחק עבודה של 10 ממ. צפיפות ההספק היא 120 ואט לסמ”, והיא מועברת דרך מחזיר בעל ציפוי דיכרואיק, שמונע את החום מהחומר עליו יושמת הקרינה ומרכז את הקרינה ה-UV על הדיו. השימוש בגליום מפחית את שחיקת האלקטרודות בזמן ההדלקות החוזרות, כך שמתח ההדלקה ויציבות הקשת נשמרים לאורך אלפי מחזורים. צפיפות האנרגיה של הקרינה מגיעה ל-800 מיליג’ול לסמ”ר בפחות מ-0.5 שניות – מספיק כדי לאפשר הידבקות וייבוש של החומר, גם בזמנים קצרים אלה.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>מנורת גאליום לחשיפת הדפסת מסך</title>
				<link>http://top-uv-lamp.com/he/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 07:31:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://top-uv-lamp.com/he/posts/gallium-lamp-for-screen-print-exposure/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://top-uv-lamp.com/images/0c45ccc8f15f63d49dc19cb9e5226d35.png&#34; alt=&#34;מנורת גאליום לחשיפת הדפסת מסך&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On the &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;floor&lt;/a&gt;, מערכת קרינת מסך מתפקדת או מפסידה בהתאם לנורה ולמידת ניקיון מעטפת הקוורץ. אם מניחים נורת גאליום לחשיפת מסך, וטביעת אצבע אחת בלבד על הקוורץ הופכת למסלול כשל מובטח. שאריות אורגניות סופגות קרינת UV קצרת גל, נוצרים מוקדי חום על הקוורץ, והתהליך של התגבשות מחדש (devitrification) מואץ. התוצאה היא ירידה מדידה ביציאת הספקטרום, אורך חיים קצר יותר לנורה, והבעיות השכיחות — תזוזות בחשיפה, נקבים (pinholes) ובעבודה חוזרת.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;נורות גאליום מספקות פרופיל ספקטרלי יציב המרוכז ב-365 nm ו-405 nm, בדיוק בנקודות שבהן הפוטואיניציאטורים באמולסיות הנקשרות ב-UV זקוקים להם. פלט ממוקד זה מביא לאור עוצמתי יותר בנקודת התבנית לעומת נורות כספית רחבות ספקטרום, מה שמגביר את אחידות הקישור הצולב ומפחית נקבים. רוב המערכות פועלות ב-80–120 W/cm, עם רפלקטורים מצופי דיכרואי לצורת קרן המותאמת ולשמירה על מינון אחיד לאורך שדה החשיפה. פלט הנורה נמדד ב-mJ/cm²; עם קוורץ נקי ורפלקטורים מיושרים לפי המפרט, ניתן לשמור על אחידות מינון של ±5% לאורך השטח הפעיל.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
