UV Strahlungs Lampe aus Gallium

Fri, 19 Jun 2026 09:55:13 +0800

Auf der elliptischen Linie der KTK-Maschine verläuft der Aushärtungsprozess nicht reibungslos – es handelt sich dabei um einen ständigen Start- und Stop-Prozess, Stunde für Stunde. Herkömmliche Quecksilberlampen können mit solch einem Einsatzzyklus nicht umgehen. Die Elektroden verschleißen, die Stabilität des Lichtbogens schwankt, und die Leistung sinkt genau dann, wenn sie am meisten gebraucht wird. Wir haben eine maßgeschneiderte UV-Lampe entwickelt, die auf einer mit Gallium angereicherten Lichtröhre basiert. Dadurch kann die Lampe wiederholt eingeschaltet werden, ohne dass die Kontrolle über das Spektrum oder die Lebensdauer der Lampe beeinträchtigt wird.

Galliumlampe für Siebdruckbelichtung

Mon, 08 Jun 2026 07:31:43 +0800

Auf dem Produktionsboden hängt die Funktion einer Siebbelichtungseinheit maßgeblich von ihrer Lampe und der Sauberkeit der Quarzhülle ab. Setzt man für die Siebbelichtung eine Galliumlampe ein, führt ein einziger Fingerabdruck auf dem Quarz unweigerlich zu einem Fehlerpfad. Organische Rückstände absorbieren das kurzwellige UV-Licht, es bilden sich Hotspots auf dem Quarz, und die kristalline Devitrifikation beschleunigt sich. Das Ergebnis sind messbare Verluste im spektralen Output, verkürzte Lampenlebensdauer sowie die üblichen Folgen – Belichtungsdrift, Nadelstiche und Nacharbeit.

Galliumlampen liefern ein stabiles Spektrum, das auf 365 nm und 405 nm zentriert ist – genau dort, wo die Photoinitiatoren in UV-härtenden Emulsionen ihre Wirkung entfalten. Diese gezielte Ausgabe erreicht an der Schablone eine höhere Spitzenbestrahlungsstärke als breitbandiges Quecksilberlicht, was die Vernetzungsuniformität verbessert und Nadelstiche reduziert. Die meisten Systeme arbeiten mit 80–120 W/cm und dichroitisch beschichteten Reflektoren, um den Strahl zu formen und die Dosierung über das Belichtungsfeld konstant zu halten. Die Ausgangsleistung wird in mJ/cm² gemessen; bei sauberem Quarz und fachgerecht eingestellten Reflektoren liegt die Dosisgleichmäßigkeit über die aktive Fläche bei ±5 %.

Exposition on Top UV Lamp

UV Strahlungs Lampe aus Gallium

Galliumlampe für Siebdruckbelichtung