Obrazovka on Top UV Lamp

Lampa na UV zasychání pro ochrannou fólii

Wed, 24 Jun 2026 07:14:44 +0800

Na podlaze každý kilowatt energie, kterou váš UV systém spotřebuje, ovlivňuje náklady. Když vyrábíte ochranné fólie, skutečná otázka je jednoduchá: jak dosáhnout plného spojení molekul a odolnosti vůči poškrábání, aniž byste utráceli peníze za elektřinu? Vytvořili jsme tuto UV lampa určenou k zpracování ochranných fólií – umožňuje spolehlivé vysychání materiálů při současném snížení spotřeby energie.

Co je důležité uvnitř lampy
Lampa funguje na principu vysokotlaké rtuťové páry, nastavené na vlnovou délku 365 nm, aby odpovídala fotoiniciátorům používaným v formulacích tvrdých vrstev. Na povrchu substrátu dosahuje intenzita záření 1200 mW/cm² – to stačí k rychlé polimerizaci bez přehřívání tenkých vrstev. Hustota energie je nastavena na 120 W/cm. Oblouk elektřiny zůstává stabilní, takže spektrální výstup zůstává v rozmezí ±2% během celé doby životnosti lampy. Dichroický reflexor posílí množství UV záření na povrch materiálu, zatímco konstrukce bez ozónu usnadňuje ventilaci.

UV lampa pro sítotisk

Tue, 09 Jun 2026 06:04:05 +0800

On the screen floor není doba prostojů a zmetků teorií. Jsou přímým důsledkem UV lampy, která nestíhá — tisková barva zůstává lepkavá, přilnavost selhává a plán výroby se posouvá. Naše vlastní UV lampy jsou navrženy tak, aby tomu zabránily, a jejich výkon zaručujeme zárukou, takže čísla nejsou pouhými slovy.

Co je skutečně důležité při vytvrzování: spektrální emise a hustota energie, kterou dodáte barvě. Naše rtuťové výbojky jsou navrženy s ohledem na okno fotoiniciátoru, s výrazným výkonem na 365nm pro hluboké průběžné vytvrzení, zatímco stabilní komponent 385–405nm zajišťuje vytvrzení povrchu a zachování barevné stálosti. Vrcholová irradiance zůstává konzistentní v celé šířce tisku díky dichroicky potištěnému reflektoru, takže dávka je jednotná — první průchod, poslední průchod, stejný výsledek.

Galliumová lampa pro expozici sítotisku

Mon, 08 Jun 2026 07:31:44 +0800

Na podlaze jednotka pro expozici síta „žije nebo umírá“ podle své lampy a čistoty křemenné ampule. Vložte galliovou lampu pro expozici síta a jediný otisk prstu na křemeni se stane jistou cestou k selhání. Organické zbytky absorbují krátkovlnné UV záření, na křemeni se tvoří horká místa a urychluje se krystalická devitrifikace. Výsledkem je měřitelná ztráta spektrálního výkonu, kratší životnost lampy a typické problémy – drift expozice, piny a nutnost přepracování.

Galliové lampy poskytují stabilní spektrální profil se střední vlnovou délkou 365 nm a 405 nm, přesně tam, kde to vyžadují fotoiniciátory v UV-tvrdnoucích emulzích. Cílený výkon dosahuje vyššího špičkového záření na šabloně než širokopásmový rtuťový zdroj, což zlepšuje rovnoměrnost síťování a snižuje defekty piny. Většina systémů pracuje s výkonem 80–120 W/cm, s dichroicky potaženými reflektory pro tvarování paprsku a udržení konzistentní dávky přes celé pole expozice. Výkon se měří v mJ/cm²; při čistém křemenu a správné nastavené geometrii reflektorů lze dosáhnout ±5 % rovnoměrnosti dávky v aktivní oblasti.